AlN基板処理におけるプラズマ支援研磨の応用と利点

Sep 20 , 2024

窒化アルミニウム(AlN)セラミックスは、優れた熱伝導性、機械的特性、電気的特性を備えた材料として、近年大規模集積回路や電子パッケージに広く使用されています。その優れた特性により、理想的な冷却基板およびパッケージ材料となります。しかし、窒化アルミニウムセラミックスは硬度が高く、脆性が高く、破壊靱性が低いため、加工中に表面欠陥や表面下の損傷が発生しやすくなります。集積回路の超平滑表面の要求を満たすために、窒化アルミニウム基板

の研磨表面は、極めて高い平坦度と低い表面粗さを達成する必要がある。そのため、超精密加工の分野では、加工時の欠陥やダメージをいかに効果的に減らすかが重要な研究課題となっています。近年、プラズマ支援研磨 (PAP) 技術は、加工が難しい材料を効果的に処理できるため、窒化アルミニウムセラミックを研磨する重要な手段となりつつあります。

Plasma Assisted Polished AlN Substrate

窒化アルミニウムセラミックスの特性と加工の課題

窒化アルミニウムセラミックスは、熱伝導性に優れているだけでなく、耐食性や電気特性も優れています。これらの特性により、高性能電子部品、特に効率的な放熱が必要とされる電子デバイスのパッケージングに広く使用されています。窒化アルミニウム基板の軽量設計により、電子デバイスの体積を効果的に削減できると同時に、パッケージの内部抵抗が低減され、チップの放熱に役立ちます。しかし、窒化アルミニウムセラミックは硬くて脆いため、機械加工の過程で非常に簡単に機械的損傷が生じ、表面に微細な亀裂、ピット、表面欠陥が生じます。これらの欠陥は材料の機械的強度に影響を与えるだけでなく、放熱性能や電気的特性も低下させ、電子デバイスの安定性や耐用年数に影響を与える可能性があります。したがって、窒化アルミニウムセラミックスの加工においては、いかにして超平滑な表面を得るか、表面粗さを低減し、損傷深さを低減するかが、製造企業や研究機関の常に焦点となっている[11]。

従来の機械研磨法は、一定の表面平坦度を達成することができますが、多くの機械的損傷を引き起こしやすく、現在の集積回路の高精度の要求に効果的に応えることが困難です。対照的に、プラズマ支援研磨技術は、窒化アルミニウム基板の処理に効果的なソリューションを提供します [15]。

The principle diagram of the plasma assisted polishing

プラズマ支援研磨 (PAP) 技術の概要

プラズマ支援研磨 (PAP) は、乾式研磨技術を除去するためのプラズマ改質と軟質研磨材の組み合わせです。原理は、プラズマ照射により窒化アルミニウムセラミックの表面を改質し、表面の化学的性質を変化させ、その後、軟質研磨剤を使用して低圧力下で材料を除去することです。従来の機械研磨と比較して、プラズマ支援研磨は表面応力集中を効果的に軽減し、研磨プロセスにおける機械的損傷を軽減します。 PAP 技術のプラズマは主に窒化アルミニウム セラミックの表面を刺激して改質層を形成します。この層は研磨剤によって除去されやすくなり、機械的作用によって引き起こされる表面の亀裂や微細な欠陥が大幅に減少します。さらに、プラズマの非接触処理方法により、研磨ツールとワークピースとの直接接触が減少し、摩擦力が減少し、表面下の損傷がさらに減少します。

窒化アルミニウムセラミック研磨の適用におけるPAP技術と利点

1. 表面欠陥の低減:PAP 技術はプラズマ照射によって材料の表面特性を変化させるため、表面材料の除去は主に化学的効果と物理的効果の共同作用に依存しており、機械部品に発生する微小な亀裂やへこみを効果的に低減できます。研磨工程。集積回路チップの用途では、表面粗さ Ra ≤ 8 nm が一般的な要件であり、PAP テクノロジーは、損傷深さをナノメートル レベルに保ちながら、この目標をより適切に達成できます。これは、窒化アルミニウム基板の全体的な処理品質を向上させる上で非常に重要です[28]。

2. 表面下の損傷を軽減する: 従来の研磨方法では、材料の除去中に材料内部に応力が集中することが多く、その結果、目に見えない表面下の損傷が発生します。この損傷は表面観察では検出するのが難しい場合が多いですが、材料の機械的特性や熱的特性に大きな影響を与える可能性があります。プラズマ支援研磨技術は、機械的接触を減らし、研削力を減ら​​すことにより、表面下の欠陥の形成を大幅に減らし、材料の完全性を確保します。

3.加工精度の向上:PAP技術はプラズマのエネルギーと照射時間を正確に制御し、材料の除去速度と表面改質層の厚さを調整することで、より高精度の研磨効果を実現します。極めて高い表面精度が要求される窒化アルミニウムセラミック基板の場合、PAP 技術は RMS < 2 nm の表面平滑性を達成できます。これは、半導体および電子パッケージング産業にとって特に重要です [36]。

4. 乾式加工の環境保護:PAP 技術は乾式研磨プロセスとして、大量の研磨液を使用する必要がなく、研磨プロセスで発生する化学廃棄物を削減し、環境に対する現代の製造業の要件に沿っています。保護と持続可能な開発。さらに、化学物質の使用が削減され、コストと環境汚染も削減されます。

PAP 技術の限界と将来の開発

窒化アルミニウムセラミックの機械加工プロセスにおけるプラズマ支援研磨には多くの利点がありますが、いくつかの制限もあります。まず第一に、PAP テクノロジーは従来の機械研磨と比較すると、装置コストが高く、材料除去速度が比較的低いため、大規模加工への適用が制限されます。さらに、プラズマの照射範囲が狭いため、処理領域が制限され、大型基板の処理におけるPAPの適用がある程度制限される[46]。

将来的には、PAP 技術の研究の焦点は、材料除去率と装置の費用対効果の向上に焦点を当てる必要があります。同時に、レーザー支援研磨やイオンビーム研磨などの他の高度な超精密加工技術と組み合わせることで、窒化アルミニウムセラミック研磨の効率と品質を向上させる効果的な方法になります

結論

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