• AlN基板の熱伝導率を向上させる方法 AlN基板の熱伝導率を向上させる方法 Aug 27 , 2024
    科学者らは、微細構造と酸素不純物含有量が、AlN セラミックの熱伝導率に影響を与える 2 つの最も重要な要素であることを発見しました。したがって、AlNセラミックスの熱伝導率を改善するには、セラミック粉末原料の調製と焼結プロセスにさらに注意を払う必要があり、継続的な実験研究により、元の窒化アルミニウム粉末を精製し、適切な低温焼結助剤を添加することが、効果的な解決策。 粉末原料の選択 窒化アルミニウム粉末は、優れた特性を備えた窒化アルミニウムセラミック材料を製造するための必須条件であり、鍵となります。窒化アルミニウム焼結プロセスの原動力は表面エネルギーであり、AlN 粉末の微粒子は焼結活性を高め、焼結力を高め、焼結プロセスを加速します。元の窒化アルミニウム粉末の初期粒子サイズが 20 倍小さい場合、セラミックの焼結速度は 147 倍増加することが確認されています。[8]。 同時に、二次再結晶...
  • 焼結助剤を最適化してAlN基板の性能を向上 焼結助剤を最適化してAlN基板の性能を向上 Sep 02 , 2024
    実際の応用では、窒化アルミニウム基板は、高い熱伝導率と高い電気絶縁特性に加えて、多くの分野で高い曲げ強度も要求されます。現在、市場に流通している窒化アルミニウムの三点曲げ強度は通常400~500MPaであり、特に高い信頼性が要求されるIGBTパワーデバイスの分野において、窒化アルミニウムセラミック基板の普及と応用が著しく制限されている。 AlN 材料の複雑な製造プロセスと高い製造コストにより、国内の AlN 材料のほとんどは依然として高熱伝導率と高強度の用途要件を満たすことができません。 窒化アルミニウムセラミック基板の製造では、焼結方法と焼結助剤の選択により、半分の労力で2倍の結果が得られることが多く、現在、焼結助剤の導入は窒化アルミニウムセラミックを焼結するための一般的な方法です。一方で、低温共晶相の形成、液相焼結の実現により、緻密なボディが促進される。一方、窒化アルミニウムは酸素不純...
  • パワーデバイスの放熱性を高めるパッケージ材料としての窒化アルミニウム基板の適用可能性 パワーデバイスの放熱性を高めるパッケージ材料としての窒化アルミニウム基板の適用可能性 Sep 09 , 2024
    電子技術の急速な発展に伴い、電子チップの総合的な性能は日々向上していますが、全体のサイズは縮小しています。この傾向はパフォーマンスの大幅な向上をもたらしますが、熱流束の劇的な増加という深刻な課題も伴います。電子機器の場合、わずかな温度上昇でも性能や寿命に大きな影響を与える可能性があります。研究によると、デバイスの温度が 10 ℃上昇するごとに、デバイスの実効寿命は 30% ~ 50% 短縮されます。したがって、熱を効果的に管理し、デバイスの放熱能力を向上させる方法が、高出力デバイスの開発における重要な技術的ボトルネックとなっています。これに関連して、優れた性能を備えた窒化アルミニウム基板が、パワーデバイスのパッケージングの分野で徐々に好ましい材料になりつつあります。 窒化アルミニウム基板の性能上の利点 高い熱伝導率 窒化アルミニウム(AlN)は、高性能セラミック素材として優れた熱伝導率が際...
  • 窒化アルミニウム基板のアプリケーション要件 窒化アルミニウム基板のアプリケーション要件 Sep 30 , 2024
    高度なセラミック材料としての窒化アルミニウム (AlN) は、その独特の物理的および化学的特性により、電子パッケージング、パワーエレクトロニクス、高周波通信およびその他の分野で大きな応用可能性を示しています。これらの分野の中核コンポーネントとして、窒化アルミニウム基板は、基本的な物理的性能要件を満たすだけでなく、特定のアプリケーション シナリオの複雑なニーズにも適応する必要があります。この論文は、窒化アルミニウムセラミック基板の物理的特性から始まり、さまざまな応用分野におけるその特定の要件を詳細に議論し、最先端の研究と組み合わせて、材料設計によって窒化アルミニウムセラミック基板の総合的な性能を向上させる方法を分析します。および調製技術。 窒化アルミニウム基板の物性 窒化アルミニウムセラミックは、高い熱伝導率、高い電気絶縁性、良好な機械的強度、優れた熱安定性、および化学的不活性性で知られてい...
  • 窒化アルミニウム基板の準備と焼結助剤の選択 窒化アルミニウム基板の準備と焼結助剤の選択 Sep 30 , 2024
    ハイテク材料の分野では、優れた熱伝導性、電気絶縁性、機械的強度に優れた窒化アルミニウム(AlN)セラミックスが、エレクトロニクス実装、パワーエレクトロニクス、マイクロ波通信機器などの主要分野のコア素材となっています。 。ただし、窒化アルミニウム基板の準備は複雑なプロセスであり、焼結プロセスと焼結添加剤の選択が最終製品の特性に重要な影響を与えます。この論文では、Alnセラミック基板の製造プロセスから始めて、焼結助剤の選択と基板の性能に対するそれらの影響について詳細に議論し、フロンティア研究と組み合わせて、窒化アルミニウム基板の総合的な性能を向上させる方法について説明します。焼結助剤を最適化することで焼結プロセスを解析します。 窒化アルミニウム基板の作製技術 窒化アルミニウム基板の準備には、主に原料の準備、混合、成形、焼結およびその他の重要なステップが含まれます。 1.原料の準備 原料の準備は...
  • 高出力IGBTモジュールのパッケージングに最適なセラミック基板材料はどれですか? 高出力IGBTモジュールのパッケージングに最適なセラミック基板材料はどれですか? Nov 11 , 2024
    最新のパワー エレクトロニクス システムでは、IGBT (絶縁ゲート バイポーラ トランジスタ) モジュールがエネルギー変換と制御の中核コンポーネントであり、その長期安定性と信頼性が非常に重要です。 IGBT モジュールのパッケージ構造の主要コンポーネントであるセラミック クラッド基板は、回路コンポーネントを搭載するだけでなく、モジュールの放熱効率と耐用年数に直接影響する熱伝導という重い役割も担っています。この論文は、特に熱伝導率と熱膨張係数の整合性の観点から、セラミック銅クラッドプレートの性能に対するさまざまなセラミック基板材料の影響を調査し、アルミナ、窒化ケイ素、および窒化アルミニウムセラミック基板材料の長所と短所を分析することを目的としています。高出力モジュールのパッケージング材料の選択に理論的根拠を提供するためのものです。 アルミナ基板の用途制限: アルミナ セラミック基板は、その...
  • 窒化アルミニウムセラミック銅クラッドプレートを効率的に準備して最適化するにはどうすればよいですか? 窒化アルミニウムセラミック銅クラッドプレートを効率的に準備して最適化するにはどうすればよいですか? Nov 12 , 2024
    パワーエレクトロニクス技術の急速な発展、特に高電圧、大電流、高周波 IGBT モジュールなどのパワー半導体デバイスの幅広い用途に伴い、セラミック銅被覆基板に対する要件がさらに厳しくなっています。窒化アルミニウム (AlN) は、高い熱伝導率、低い誘電率、優れた機械的特性を備えたセラミック材料の一種であり、高性能セラミックの銅被覆基板を作製するのに理想的な選択肢です。ただし、窒化アルミニウム基板の表面特性により、銅や酸化銅がその上に濡れて広がるのが難しく、DBC (直接接合銅) プロセスへの直接適用は制限されます。したがって、窒化アルミニウムセラミック銅クラッドプレートの効率的な製造プロセスを探索し、その性能を最適化することが現在の研究の焦点となっている[3]。 窒化アルミニウム DBC 調製プロセスの課題と解決策: 窒化アルミニウムの表面特性により、銅との直接接合が困難になります。窒化アル...
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よくある質問

当社はアルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、石英セラミックスなどの先進的なセラミック材料に主に焦点を当てていますが、常に新しい材料と技術を模索しています。特定の材料要件がある場合は、当社までご連絡ください。お客様のニーズを満たすか、適切なパートナーを見つけるために最善を尽くします。

絶対に。当社の技術チームはセラミック材料に関する深い知識と製品設計における豊富な経験を持っています。お客様の製品の最適なパフォーマンスを確保するために、材料選択のアドバイスと製品設計のサポートを喜んで提供させていただきます

当社には固定の最低注文金額要件はありません。私たちは常にお客様のニーズを満たすことに重点を置き、注文の規模に関係なく、高品質のサービスと製品を提供するよう努めています

セラミック製品に加えて、当社は以下のような追加サービスも提供します。お客様のニーズに基づいて、お客様自身で製造したブランクまたは半完成ブランクを使用したカスタマイズされたセラミック加工サービス。外部委託のセラミックパッケージングおよびメタライゼーションサービスにご興味がございましたら、詳細についてお問い合わせください。当社は、お客様のさまざまなニーズを満たすワンストップ ソリューションを提供することに常に取り組んでいます。

はい、そうです。世界中のどこにお住まいであっても、ご注文の商品を安全かつタイムリーにお届けいたします。

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