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  • Silicon carbide shaft
    製品

    炭化ケイ素シャフトは高純度の炭化ケイ素粉末でできており、優れた機械的特性と化学的安定性を備えており、主に高温、腐食、重荷重などの過酷な条件で使用されます

  • Silicon carbide heating element
    製品

    炭化ケイ素発熱体は、高純度の緑色炭化ケイ素とカーボンブラックを高温ケイ化および再結晶化させて作られた高温電気発熱体です。他の金属電熱素子と比較して、酸およびアルカリの耐食性、強い酸化耐性、大きな表面負荷密度、速い温度上昇、良好な熱衝撃耐性、小さな熱膨張係数、高い熱伝導率、高い使用温度、長寿命で、自動電子制御システムと統合すると、正確な一定温度が得られるだけでなく、生産プロセスのニーズに応じた自動温度調整も実現できます。

  • Silicon carbide ceramic bulletproof plate
    製品

    炭化ケイ素セラミック防弾板の硬度は高く、HV2600以上に達し、防弾グレードはNIJ IVレベルに達し、車両、航空機、船舶の防弾装甲の内張りや防護装甲として使用できます。 1>

  • Silicon carbide ceramic substrate
    製品

    基板は半導体チップの基本材料であり、抵抗率により導電型と半絶縁型に分けられます。炭化ケイ素基板で作られた半導体デバイスは、高温、高電圧、大電力のアプリケーション要件をよりよく満たすことができ、形状は一般的に円形で、直径は通常2インチ(50mm)、3インチ(75mm)、4インチ(100mm)です。 )、6 インチ (150mm)、8 インチ (200mm) およびその他の仕様。

  • Silicon carbide ceramic wafer
    製品

    新世代の半導体材料である炭化ケイ素ウェハは、金属酸化物半導体電界効果トランジスタ (MOSFET)、ショットキー ダイオード、フォトダイオードなどのさまざまな電子デバイスの製造に使用できます

  • Silicon carbide tray
    製品

    炭化ケイ素トレイは、RTA(急速熱アニーリング)、PVD(物理蒸着)、ICP(誘導結合プラズマ)、CMP(化学蒸着)などの半導体製造プロセスで使用される搬送装置として、高純度の炭化ケイ素粉末を焼結後に成形したものです。機械研磨)など

  • Silicon carbide nozzle
    製品

    ノズルの主な機能は、噴射動作を通じて液体または気体を必要な形状、速度、方向に変換することです

  • Silicon carbide ceramic ball bearing
    製品

    炭化ケイ素軸受は、主に内輪、外輪、ローラーで構成され、高硬度、耐摩耗性、軽量、高温耐性、耐食性、耐酸化性などの特性を備えた高性能軸受の一種です。過酷な作業環境や高速動作に適しています。

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よくある質問

当社はアルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、石英セラミックスなどの先進的なセラミック材料に主に焦点を当てていますが、常に新しい材料と技術を模索しています。特定の材料要件がある場合は、当社までご連絡ください。お客様のニーズを満たすか、適切なパートナーを見つけるために最善を尽くします。

絶対に。当社の技術チームはセラミック材料に関する深い知識と製品設計における豊富な経験を持っています。お客様の製品の最適なパフォーマンスを確保するために、材料選択のアドバイスと製品設計のサポートを喜んで提供させていただきます

当社には固定の最低注文金額要件はありません。私たちは常にお客様のニーズを満たすことに重点を置き、注文の規模に関係なく、高品質のサービスと製品を提供するよう努めています

セラミック製品に加えて、当社は以下のような追加サービスも提供します。お客様のニーズに基づいて、お客様自身で製造したブランクまたは半完成ブランクを使用したカスタマイズされたセラミック加工サービス。外部委託のセラミックパッケージングおよびメタライゼーションサービスにご興味がございましたら、詳細についてお問い合わせください。当社は、お客様のさまざまなニーズを満たすワンストップ ソリューションを提供することに常に取り組んでいます。

はい、そうです。世界中のどこにお住まいであっても、ご注文の商品を安全かつタイムリーにお届けいたします。

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