• 金属摩擦誘起反応研削技術の革新的応用による炭化ケイ素基板加工の課題 金属摩擦誘起反応研削技術の革新的応用による炭化ケイ素基板加工の課題 Sep 19 , 2024
    半導体材料の分野では、優れた熱伝導率、広いバンドギャップ特性、高い破壊電界強度、高い電子移動度を備えた炭化ケイ素(SiC)が徐々に研究開発のホットスポットとなりつつあり、新世代の技術革新をリードしています。電子機器。主要コンポーネントの基板材料として、高効率パワーエレクトロニクスから高周波通信チップに至るまで、炭化ケイ素の幅広い用途の見通しは自明のことであり、その姿はあらゆるところにあります。しかし、炭化ケイ素材料の非常に高い硬度 (モース硬度約 9.5) は諸刃の剣のようなもので、優れた物理的特性をもたらしますが、その加工には多くの障害も生じます。 研磨・研削という難題に直面 炭化珪素基板、従来の処理方法は、多くの場合、不十分で、非効率的で、コストがかかります。このような状況の中で、金属摩擦誘起反応研削技術が誕生し、炭化ケイ素の効率的な加工に新たな道を切り開きました。この技術は、高温での...
  • ゾルゲル研磨技術: 炭化ケイ素基板研磨を革新する課題と機会 ゾルゲル研磨技術: 炭化ケイ素基板研磨を革新する課題と機会 Sep 23 , 2024
    半導体材料業界の新興スターである炭化ケイ素は、その優れた性能指標によりマイクロエレクトロニクス技術の革新トレンドを徐々にリードしています。従来の半導体材料よりもはるかに優れたその独特の熱伝導率は、効率的な熱放散の可能性をもたらし、特に高出力電子デバイスにおいて比類のない利点を示します。広いバンドギャップ特性と相まって、炭化ケイ素基板 は極端な環境でも安定した電気的性能を維持でき、温度変動の影響を受けないため、航空宇宙や航空宇宙などのハイエンド用途での応用範囲が大幅に広がります。新エネルギー車。さらに、高絶縁破壊電界と高電子移動度という 2 つの重要なパラメーターにより、パワー エレクトロニクス コンバーターや RF 通信デバイスなどの高周波および高電圧電子デバイスにおける炭化ケイ素の応用のための強固な基盤が築かれました。 、そのおかげでパフォーマンスの飛躍を達成しました。 炭化ケイ素の幅広...
  • 機械工学分野における窒化ケイ素ボールの性能特性と応用に関する研究 機械工学分野における窒化ケイ素ボールの性能特性と応用に関する研究 Sep 24 , 2024
    現代の機械工学技術の急速な発展に伴い、特に高温、高速、強い腐食などの極限条件下では、材料特性に対する要件がますます厳しくなり、従来の金属材料やポリマー材料ではニーズを満たすことが困難になってきました。 。窒化ケイ素 (Si ®) 優れた総合特性を持つ先進的なセラミック材料として、窒化ケイ素ボールはその独特の特性を示し、機械工学の分野で幅広い応用の可能性を示します。この論文では、窒化ケイ素ボールの特性と特性を概説し、機械工学におけるその具体的な用途について議論し、将来の開発傾向を展望します。 窒化ケイ素セラミックは、その高強度、高硬度、優れた熱安定性、耐食性、耐酸化性、自己潤滑性により、「先進セラミックスの王冠の真珠」として知られています。窒化ケイ素セラミックスの重要な形状である窒化ケイ素ボールは、窒化ケイ素セラミックスの優れた特性を継承するだけでなく、その球状構造により独特の機械的特性と幅...
  • 超微細研削分野における窒化ケイ素ボールの応用性能と利点の分析 超微細研削分野における窒化ケイ素ボールの応用性能と利点の分析 Sep 25 , 2024
    ナノテクノロジーと超微粒子材料科学の急速な発展に伴い、高純度で超微粒子の粉末に対する需要は日に日に高まっています。 窒化ケイ素ボールは、優れた硬度、非常に低い摩耗率、優れた化学的安定性を備え、徐々に超微粉砕の分野で重要な研削媒体になりました。この論文の目的は、研削媒体としての窒化ケイ素セラミックボールの性能特性を体系的に説明し、超微粉砕プロセスにおけるその応用利点と特定の用途について深く議論し、研究と研究のための理論的基礎と実践的なガイダンスを提供することです。関連分野への応用 超微粉砕技術は現代の材料調製および加工の重要な分野であり、材料特性の向上と材料応用分野の拡大にとって非常に重要です。スチールボールやアルミナボールなどの従来の粉砕メディアは、磨耗が大きい、材料が汚染されやすい、高純度かつ低純度の超微粉砕の要件を満たすことが難しいなど、粉砕プロセスで多くの問題を抱えていました。汚染。...
  • 窒化ケイ素ボール: ハイテク粉末粉砕メディアの新しい選択肢 窒化ケイ素ボール: ハイテク粉末粉砕メディアの新しい選択肢 Sep 26 , 2024
    ハイテク産業の急速な発展に伴い、粉末材料の細かさ、純度、一貫性に対する要求が高まっています。粉末調製プロセスの重要な要素である粉砕媒体の性能は、最終製品の品質を直接決定します。伝統的に、ジルコニアセラミックボールは、その高い曲げ強度、耐摩耗性、および一定の高い靭性により、超微粉砕の分野で広く使用されています。ただし、適時の故障と高温での性能の不安定性により、ハイエンドの粉末製造での用途は制限されます。この論文の目的は、新世代の粉砕媒体としての 窒化ケイ素ボール の独自の利点を探り、それがどのように ジルコニア ボール に取って代わり、ハイテク粉末の品質を大幅に向上させることができるかを説明することです。製品 材料科学の重要な分野である粉体産業は、その製品の性能が半導体、生物医学、航空宇宙、その他のハイテク分野の発展に直接関係しています。粉体調製の中核ツールである粉砕媒体の選択は、粉砕効率、...
  • スプレー造粒プロセスを最適化して Si3N4 ボールの性能を向上させる スプレー造粒プロセスを最適化して Si3N4 ボールの性能を向上させる Sep 27 , 2024
    窒化ケイ素 (Si3N4) ボール は、軽量、自己潤滑性、高絶縁性、非磁性、耐衝撃性などの優れた特性により、高速、高精度、長寿命ベアリングの分野で大きな可能性を示しています。弾性率が高く、耐食性に優れています。この論文は、高性能軸受に対する緊急の需要を満たすために、Si3N4 ボールの密度、機械的特性、および微細構造を改善するために、Si3N4 粉末の噴霧造粒プロセス、特に圧力噴霧造粒法の最適化について議論することを目的としています。航空宇宙、自動車、風力発電分野の材料。 産業技術の急速な発展に伴い、材料特性に対する要件はますます厳しくなっています。新しいタイプの高性能軸受材料として、Si3N4 セラミック ボールは、その性能をさらに向上させるための研究のホットスポットとなっています。中でもブランク密度はセラミックボールの最終性能に影響を与える重要な要素であり、焼結後のセラミックボールの微...
  • 窒化ケイ素ボールの焼結緻密化に及ぼす造粒粉のかさ密度の影響 窒化ケイ素ボールの焼結緻密化に及ぼす造粒粉のかさ密度の影響 Sep 29 , 2024
    Si3N4 粉末は、窒化ケイ素ボールを製造するための主原料です。適切な処理方法を選択して、規則的な形状と均一な粒度分布を備えた粉末を得ることが、Si3N4 セラミック ボールの成形、焼結、加工などのプロセスを安定して実行するための基礎となります。 異なる噴霧法によると、Si3N4 粉末の噴霧造粒法には主に遠心噴霧造粒、加圧噴霧造粒、二流体噴霧造粒が含まれます。加圧噴霧造粒 均一なSi3N4粉末を含むスラリーを高圧下で造粒塔内に噴霧して霧化し、熱風により液滴を速やかに乾燥させて球形の粉末とすることで、スラリー中の各種成分の凝集・沈降を防止します。粒子表面の溶媒の揮発速度を制御することにより、規則的な粒子形態が得られ、均一な粒度分布、良好な流動性、適度なゆるめ密度を備えた噴霧造粒粉末を充填することができる。したがって、粉末充填金型の性能が向上し、ブランクの密度と均一性が向上します。したがって、...
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よくある質問

当社はアルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、石英セラミックスなどの先進的なセラミック材料に主に焦点を当てていますが、常に新しい材料と技術を模索しています。特定の材料要件がある場合は、当社までご連絡ください。お客様のニーズを満たすか、適切なパートナーを見つけるために最善を尽くします。

絶対に。当社の技術チームはセラミック材料に関する深い知識と製品設計における豊富な経験を持っています。お客様の製品の最適なパフォーマンスを確保するために、材料選択のアドバイスと製品設計のサポートを喜んで提供させていただきます

当社には固定の最低注文金額要件はありません。私たちは常にお客様のニーズを満たすことに重点を置き、注文の規模に関係なく、高品質のサービスと製品を提供するよう努めています

セラミック製品に加えて、当社は以下のような追加サービスも提供します。お客様のニーズに基づいて、お客様自身で製造したブランクまたは半完成ブランクを使用したカスタマイズされたセラミック加工サービス。外部委託のセラミックパッケージングおよびメタライゼーションサービスにご興味がございましたら、詳細についてお問い合わせください。当社は、お客様のさまざまなニーズを満たすワンストップ ソリューションを提供することに常に取り組んでいます。

はい、そうです。世界中のどこにお住まいであっても、ご注文の商品を安全かつタイムリーにお届けいたします。

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